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KrF光刻胶
徐州博康是国内一家从原材料到成品光刻胶供应商。
PHS树脂体系，包括高活化能正胶、低活化能正胶以及负性胶等产品，具有高解析度、耐刻蚀、抗离子注入等优点。薄胶以高分辨为特点，解析度可达HP120nm，厚胶以高深宽比为特点，AR可达12:1，已进入客户端验证。目前已有近20+支KrF产品在国内12寸Fab验证及销售。
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HTK1061
曝光波长：248nm
技术节点及应用：N40-14nm KrF L/S (IMP,Etch)
工艺能力CD：0.12um
工艺能力THK：0.20-0.30um -
HTK1062
曝光波长：248nm
技术节点及应用：N40-14nm KrF L/S (IMP,Etch)
工艺能力CD：0.14um
工艺能力THK：0.17-0.24um -
HTK1063
曝光波长：248nm
技术节点及应用：N40-14nm KrF L/S (IMP,Etch)
工艺能力CD：0.16um
工艺能力THK：0.22-0.32um -
HTK1064
曝光波长：248nm
技术节点及应用：N40-28nm KrF L/S (Etch)
工艺能力CD：0.16um
工艺能力THK：0.35-0.54um -
HTK1065
曝光波长：248nm
技术节点及应用：N65/55nm KrF L/S (IMP)
工艺能力CD：0.16um
工艺能力THK：0.24-0.34um -
HTK1066
曝光波长：248nm
技术节点及应用：N65/55nm KrF L/S (IMP)
工艺能力CD：0.16um
工艺能力THK：0.33-0.48um -
HTK1067
曝光波长：248nm
技术节点及应用：N40-14nm KrF L/S (IMP)
工艺能力CD：0.16um
工艺能力THK：0.33-0.48um -
HTK1075
曝光波长：248nm
技术节点及应用：N40nm-14nm KrF L/S (IMP,Etch)
工艺能力CD：0.20um
工艺能力THK：0.65-0.95um -
HTK1082
曝光波长：248nm
技术节点及应用：N40nm-14nm KrF L/S (IMP,Etch)
工艺能力CD：0.30um
工艺能力THK：0.80-1.20um -
HTK3001
曝光波长：248nm
技术节点及应用：N90-14nm KrF L/S, C/H, (IMP,Etch)
工艺能力CD：0.32um
工艺能力THK：1.0-1.5um
