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ArF光刻胶
徐州博康是国内一家从原材料到成品光刻胶供应商。
包括ArF-immersion(topcoat less)产品和ArF-dry产品,树脂结构为甲基丙烯酸酯/丙烯酸酯系列体系,伴有金刚烷等功能单元,具有高分辨率、高灵敏度、耐刻蚀等特点,技术能力已经达到28nm技术节点,目前已有10+支产品在国内知名12寸Fab验证,部分产品已获批量订单。
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HTA116
曝光波长:193nm IMM
技术节点及应用:N40nm-14nm PTD L/S
工艺能力CD:0.063um
工艺能力THK:0.16-0.24um -
HTA112
曝光波长:193nm IMM
技术节点及应用:N40nm-14nm PTD C/H
工艺能力CD:0.080um
工艺能力THK:0.13-0.20um -
HTA121
曝光波长:193nm Dry
技术节点及应用:N90-40nm PTD L/S
工艺能力CD:0.08um
工艺能力THK:0.20-0.30um -
HTA1101
曝光波长:193nm Dry
技术节点及应用:N90-40nm PTD C/H
工艺能力CD:0.09um
工艺能力THK:0.15-0.21um -
HTA1123
曝光波长:193nm Dry
技术节点及应用:N90-40nm PTD C/H
工艺能力CD:0.10um
工艺能力THK:0.20-0.30um -
HTA1201
曝光波长:193nm Dry
技术节点及应用:N90-40nm PTD C/H
工艺能力CD:0.10um
工艺能力THK:0.23-0.35um -
HTA2031
曝光波长:193nm IMM
技术节点及应用:N40nm-14nm PTD C/H
工艺能力CD:0.045um
工艺能力THK:0.08~0.10um -
HTA2011
曝光波长:193nm IMM
技术节点及应用:N40nm-14nm PTD C/H
工艺能力CD:0.065um
工艺能力THK:0.09~0.12um