Products光刻胶-KrF光刻胶
徐州博康是国内一家从原材料到成品光刻胶供应商。
PHS树脂体系，包括高活化能正胶、低活化能正胶以及负性胶等产品，具有高解析度、耐刻蚀、抗离子注入等优点。薄胶以高分辨为特点，解析度可达HP120nm，厚胶以高深宽比为特点，AR可达12:1，已进入客户端验证。目前已有近10+支KrF产品在国内12寸Fab验证及销售。
| 曝光波长 | 产品名称 | 技术节点及应用 | 工艺能力CD | 工艺能力THK | 图像 |
|---|---|---|---|---|---|
| 248nm | HTK1061 | N40-14nm KrF L/S (IMP,Etch) | 0.12um | 0.20-0.30um |  |
| 248nm | HTK1062 | N40-14nm KrF L/S (IMP,Etch) | 0.14um | 0.17-0.24um |  |
| 248nm | HTK1063 | N40-14nm KrF L/S (IMP,Etch) | 0.16um | 0.22-0.32um |  |
| 248nm | HTK1064 | N40-28nm KrF L/S (Etch) | 0.16um | 0.35-0.54um |  |
| 248nm | HTK1065 | N65/55nm KrF L/S (IMP) | 0.16um | 0.24-0.34um |  |
| 248nm | HTK1066 | N65/55nm KrF L/S (IMP) | 0.16um | 0.33-0.48um |  |
| 248nm | HTK1067 | N40-14nm KrF L/S (IMP) | 0.16um | 0.33-0.48um |  |
| 248nm | HTK1075 | N40nm-14nm KrF L/S (IMP,Etch) | 0.20um | 0.65-0.95um |  |
| 248nm | HTK1082 | N40nm-14nm KrF L/S (IMP,Etch) | 0.30um | 0.80-1.20um |  |
| 248nm | HTK3001 | N90-14nm KrF L/S, C/H, (IMP,Etch) | 0.32um | 1.0-1.5um |  |
| 248nm | HTK5001 | 3DNAND 台阶刻蚀/高能离子注入 | 1.70um | 3.0-5.0um |  |
| 248nm | HTK510 | 刻蚀 | 2um | 3.0-5.0um |  |
| 248nm | HTK516-1 | PAD | 0.6um | 1.0-2.0um |  |
| 248nm | HTK516-2 | PAD | 1um | 1.5-3.0um |  |
| 248nm | HTKN601-0.4 | 化合物半导体 (金属剥离,KrF 负胶) | 0.2um | 0.3-0.6um |  |
